日美合作共同开发低成本纳米压印技术

    纳米压印技术与ArF液浸曝光及EUV曝光等光刻技术相比，可削减设备成本。但因其是用模板压模后转印电路图形，所以量产时需要定期更换模板。因此，该公司希望成本能比模板进一步降低。

    为了解决该课题，此次的合作中两公司（大日本印刷与美国Molecular Imprints）将共同开发在硅晶圆上转印图形用纳米压印模板复制技术。两公司称，将应用现有的光掩模制造技术，确立可高效复制及制造模板的技术。

    此前，大日本印刷在纳米压印技术方面，一直致力于开发用于在底板上形成电路图形的石英玻璃制模板。2005年，该公司出资从事纳米压印技术开发的Molecular，建立了Molecular系统用模板的开发销售体制。并且于07年成功开发了支持18nm级半导体工艺的模板。大日本印刷将在2011年底之前确立模板复制技术。力争2012年度之前量产采用于半导体内存等。